化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)
儀器名稱:化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)
品牌: 布魯克
型號:TriboLab CMP
產(chǎn)地:美國
儀器介紹:
1.加載方式:伺服控制閉環(huán)加載;
2.樣片夾持方式:水表面張力吸附夾持;
3.拋光速率(硅晶圓片):300nm/min;
4.最小粗糙度(硅晶圓片):1nm;
5.化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)主要用于Si、SiC、Ge、GaN等半導(dǎo)體材料,SiO2、Si3N4、CeO2、GeO、Al2O3等金屬氧化物以及Al普通金屬和Au、Pt等惰性金屬的化學(xué)機(jī)械拋光工藝。